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第五人格杰佣污图:硅研磨片超聲波清洗技術

作者: 來源: 日期:2013/3/5 17:31:32 人氣:3112

第五人格一周年庆图片 www.skclr.icu   在半導體材料的制備過程中 ,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好壞直接影響下一道工序甚至影響器件的成品率和可靠性。由于 ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的減小 ,對于晶片表面沾污的要求更加嚴格 ,ULSI工藝要求在提供的襯底片上吸附物不多于 500個 /m2× 0 . 12μm,金屬污染小于 1010原子 / cm2。晶片生產中每一道工序存在的潛在污染 ,都可導致缺陷的產生和器件的失效。因此 ,硅研磨片的清洗引起了人士的重視。以前很多廠家都用手洗的方法 ,這種方法人為的因素較多 ,一方面容易產生碎片 ,經濟效益下降,另一方面手洗的硅片表面潔凈度差 ,污染嚴重 ,使下道工序化拋腐蝕過程中的合格率較低。所以 ,硅研磨片的清洗技術引起了人們的重視 ,找到一種簡單有效的清洗方法是當務之急。本文介紹了一種超聲波清洗技術 ,其能有效地清洗硅研磨片 效果顯著,是一種值得推廣的硅片清洗技術。

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